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昆山彰盛奈米-一种气流均匀分散装置

2018年05月02日 点击:
摘要:一种气流均匀分散装置,包括支架,其特征在于:所述的支架的两侧设有固定卡,所述的支架的外侧从上到下设有通气孔,所述的通气孔间的间距从上到下依次减小,所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大。优选的,所述的支架内通过固定架固定有挡流板。本实用新型的有益效果在于:在传统的镀膜设备上加装本实用新型提供的气流均匀分散装置,对进入镀膜设备的气流进行分散处理,为镀膜设备内部提供均匀的气流,保证3D-Wafer晶元硅通孔涂层的均匀稳定性。
申请人: 
地址: 215331 江苏省苏州市昆山市陆家镇杨家路9号1号厂房
发明(设计)人: 
主分类号: 
分类号: 
  • 法律状态

2015-09-09 授权

注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

  • 其他信息

主权项 一种气流均匀分散装置,包括支架,其特征在于:所述的支架的两侧设有固定卡,所述的支架的外侧从上到下设有通气孔,所述的通气孔间的间距从上到下依次减小,所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大;以保证上下流阻趋于一致,气流经过支架后均匀分散。

公开号 204625783U

公开日 2015-09-09

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国际公布

进入国家日期


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